研究所纳米压印国内用户

SmartNIL是一项关键的启用技术，可用于显示器，生物技术和光子应用中的许多新创新。例如，SmartNIL提供了无人能比的全区域共形压印，以便满足面板基板上线栅偏振器的ZUI重要标准。SmartNIL还非常适合对具有复杂纳米结构的微流控芯片进行高精度图案化，以支持下一代药物研究和医学诊断设备的生产。此外，SmartNIL的ZUI新发展为制造具有ZUI高功能，ZUI小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度，这对于实现衍射光学元件（DOE）至关重要。特征：体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度专有SmartNIL®技术，多使用聚合物印模技术经过生产验证的分辨率低至40nm或更小大面积全场压印总拥有成本ZUI低在地形上留下印记对准能力室温过程开放式材料平台SmartNIL集成多次使用的软标记处理功能，并具有显着的拥有成本的优势，同时保留可扩展性和易于维护的特点。研究所纳米压印国内用户

EVG®720自动SmartNIL®UV纳米压印光刻系统自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米，设有EVGs专有SmartNIL®技术EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知识，能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术的EVG720系统能够在大面积上印刷小至40nm*的纳米结构，具有无人能比的吞吐量，非常适合批量生产下一代微流控和光子器件，例如衍射光学元件（DOEs）。*分辨率取决于过程和模板如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。也可以访问岱美仪器技术服务有限公司的官网，获得更多信息。掩模对准纳米压印有哪些应用分步重复刻印通常用于高效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的Smart NIL工艺所需的母版。

EV集团和肖特携手合作，证明300-MM光刻/纳米压印技术在大体积增强现实/混合现实玻璃制造中已就绪联合工作将在EVG的NILPhotonics®能力中心开展，这是一个开放式的光刻/纳米压印（NIL）技术创新孵化器，同时也是全球为一可及的300-mm光刻/纳米压印技术线2019年8月28日，奥地利，圣弗洛里安――微机电系统（MEMS）、纳米技术和半导体市场晶圆键合与光刻设备领仙供应商EV集团（EVG）金日宣布，与特种玻璃和微晶玻璃领域的世界领仙技术集团肖特携手合作，证明300-mm（12英寸）光刻/纳米压印（NIL）技术在下一代增强现实/混合现实（AR/MR）头戴显示设备的波导/光导制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圆的大体积图案成形已就绪。此次合作涉及EVG的专有SmartNIL®工艺和SCHOTTRealView™高折射率玻璃晶圆，将在EVG位于奥地利总部的NILPhotonics®能力中心进行。肖特将于9月4日至7日在深圳会展中心举行的中国国际光电博览会上展示一款采用EVGSmartNIL技术进行图案成形的300-mmSCHOTTRealView™玻璃晶圆。300-mm和200-mmSCHOTTRealView™玻璃基板，装配在应用SmartNIL®UV-NIL技术的EVG®HERCULES®。

EVG®510HE特征：用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用自动化压印工艺EVG专有的独力对准工艺，用于光学对准的压印和压印完全由软件控制的流程执行闭环冷却水供应选项外部浮雕和冷却站EVG®510HE技术数据：加热器尺寸：150毫米，200毫米蕞大基板尺寸：150毫米，200毫米蕞小基板尺寸：单芯片，100毫米蕞大接触力：10、20、60kN最高温度：标准：350°C；可选：550°C夹盘系统/对准系统150毫米加热器：EVG®610，EVG®620，EVG®6200200毫米加热器：EVG®6200，MBA300，的SmartView®NT真空：标准：0.1毫巴可选：0.00001mbarEV Group能够提供混合和单片微透镜成型工艺。

EVG®620NT特征：顶部和底部对准能力高精度对准台自动楔形补偿序列电动和程序控制的曝光间隙支持ZUI新的UV-LED技术ZUI小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）敏捷处理和转换工具台式或带防震花岗岩台的单机版EVG®620NT附加功能：键对准红外对准SmartNILµ接触印刷技术数据晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：ZUI大150毫米的碎片柔软的UV-NIL：ZUI大150毫米的碎片SmartNIL®：在100毫米范围解析度：≤40nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：软UV-NIL＆SmartNIL®曝光源：汞光源或紫外线LED光源对准：软NIL：≤±0.5µmSmartNIL®：≤±3微米自动分离：柔紫外线NIL：不支持；SmartNIL®：支持工作印章制作：柔软的UV-NIL：外部：SmartNIL®：支持纳米压印技术在纳米科技领域具有广泛的应用前景，可以推动纳米科技的发展和应用。高精密仪器纳米压印应用

SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现无人可比的吞吐量。研究所纳米压印国内用户

EVG®6200NT特征：顶部和底部对准能力高精度对准台自动楔形补偿序列电动和程序控制的曝光间隙支持蕞新的UV-LED技术蕞小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）敏捷处理和转换工具台式或带防震花岗岩台的单机版EVG®6200NT附加功能：键对准红外对准智能NIL®µ接触印刷技术数据晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：75至200mm柔软的UV-NIL：75至200毫米SmartNIL®：蕞多至150mm解析度：≤40nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：软UV-NIL＆SmartNIL®曝光源：汞光源或紫外线LED光源对准：软NIL：≤±0.5µm；SmartNIL®：≤±3微米自动分离：柔紫外线NIL：不支持；SmartNIL®：支持工作印章制作：柔软的UV-NIL：外部；SmartNIL®：支持研究所纳米压印国内用户